產(chǎn)品中心
產(chǎn)品分類
產(chǎn)品分類
品牌標簽
品牌標簽
產(chǎn)品介紹
XUUS 5 將超快激光脈沖上轉(zhuǎn)換為光譜的極紫外 (EUV 或 XUV) 或軟 X 射線區(qū)域。采用 HHG 工藝，輸出光束繼承了驅(qū)動激光器（如 KMLabs RAEA）的相干特性，波長可在約 10 至 50 nm 之間調(diào)節(jié)。此外，定制系統(tǒng)可以生成波長短至 6 nm 的相干光束。XUUS 5 采用 KMLabs 的空心波導進行高次諧波上轉(zhuǎn)換工藝。
XUUS 空心光纖或波導架構(gòu)使系統(tǒng)產(chǎn)生的諧波與其他 HHG 方法區(qū)分開來，保證諧波每次都來自空間中的同一點，更大限度地減少任何指向漂移。此架構(gòu)可優(yōu)化實驗的可重復性。此外，使用光纖（而不是典型的氣體噴射或semi-infinite氣室目標幾何形狀）可為相位匹配 HHG 提供壓力可調(diào)性。現(xiàn)在，您可以選擇堅固性，而無需犧牲靈活性。
性能特點
- 空心波導中的高諧波轉(zhuǎn)換可實現(xiàn)轉(zhuǎn)換、穩(wěn)定性、可重復性和穩(wěn)健性。
- 對于苛刻的應用，EUV 通量可以超過 1×1012ph/秒。
- 超穩(wěn)定的4軸主動光束穩(wěn)定，可產(chǎn)生與可見紅外激光器相當?shù)?EUV 光束強度和波前穩(wěn)定性。
- 高平均功率處理能力推動下一代實驗。
- 用于性能監(jiān)控和對準控制的診斷攝像機。
- 圖形化、直觀的軟件控制。
- 在溫度穩(wěn)定的平臺上進行穩(wěn)定的工業(yè)光學安裝。
- 不斷增長的應用專用光束線系列可為您的實驗提供量身定制的光子。
- 高度相干、類似激光的 EUV (XUV) / SXR。
- XUUS 系統(tǒng)配置可生成波長約為 6 nm 的軟 X 射線。
- 波導設計允許使用高壓氣體，同時將氣體用量降至更低：比氣體噴射幾何結(jié)構(gòu)少 1000 倍，效率提高 1000 倍。
- XUUS 輸出可針對不同的應用進行優(yōu)化：ARPES、成像、瞬態(tài)吸收、MOKE、XMCD。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)地：美國
波長范圍（~800nm 泵浦）：~10-50nm
通量：高達 1012ph/s/諧波
通量波動（>8 小時）：<5% RMS
指向波動（> 8 小時）：<5µrad RMS
尺寸：1200 mm L x 330 mm W x 176 mm H
光束高度：4.5”(114.3mm)
生成波長：約6 nm
光束穩(wěn)定：4軸
架構(gòu)：波導
波導：空心
產(chǎn)品應用
光發(fā)射：tr-ARPES 和阿秒材料科學
納米電子學計量學和 EUV 光刻支持
高分辨率和時間分辨無透鏡納米成像
超快磁性材料和自旋電子學研究
磁性、材料、分子和納米系統(tǒng)動力學的高空間和時間分辨率泵探測研究
分子動力學和阿秒科學
產(chǎn)品參數(shù)
津公網(wǎng)安備12010102000950號