XENOS XeMove載物臺(tái)使用先進(jìn)的激光測量系統(tǒng)和超聲波壓電驅(qū)動(dòng)技術(shù),結(jié)合我們的光刻系統(tǒng)(測量分辨率為10nm),可獲得優(yōu)于100nm的縫合和覆蓋精度。
XeMove:電子束光刻平臺(tái)
緊湊的設(shè)計(jì)允許用作子階段或更換階段,只需要電氣室饋通。所有組件都是高真空兼容且完全非鐵磁的。緊湊的設(shè)計(jì)包括激光測量系統(tǒng)和壓電驅(qū)動(dòng)部件。軸上測量將偏航誤差的影響降至更低。行程范圍從55毫米到120毫米不等。
產(chǎn)地:美國
類型:電子束光刻平臺(tái)
測量分辨率:10nm
行程范圍:55mm到120mm
縫合精度:優(yōu)于100nm
覆蓋精度:優(yōu)于100nm
激光視口:不需要
機(jī)械饋通:不需要
觸點(diǎn)連接:ZIF
兼容:高真空
組件:非鐵磁
部件驅(qū)動(dòng):壓電