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ABeam Technologies載物臺(tái)XENOS XeMove

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產(chǎn)品介紹

XENOS XeMove載物臺(tái)使用先進(jìn)的激光測量系統(tǒng)和超聲波壓電驅(qū)動(dòng)技術(shù),結(jié)合我們的光刻系統(tǒng)(測量分辨率為10nm),可獲得優(yōu)于100nm的縫合和覆蓋精度。

XeMove:電子束光刻平臺(tái)

緊湊的設(shè)計(jì)允許用作子階段或更換階段,只需要電氣室饋通。所有組件都是高真空兼容且完全非鐵磁的。緊湊的設(shè)計(jì)包括激光測量系統(tǒng)和壓電驅(qū)動(dòng)部件。軸上測量將偏航誤差的影響降至更低。行程范圍從55毫米到120毫米不等。

性能特點(diǎn)
  • 集成到現(xiàn)有系統(tǒng)中不需要復(fù)雜且昂貴的腔室修改。
  • 測量系統(tǒng)不需要激光視口,載物臺(tái)電機(jī)不需要機(jī)械饋通,所有有源部件都放置在真空室內(nèi),并通過標(biāo)準(zhǔn)電氣饋通進(jìn)行電子控制。
  • 對(duì)于某些腔室設(shè)計(jì)(例如JEOL JSM-7xxx),載物臺(tái)可以通過負(fù)載鎖插入,并通過腔室內(nèi)的特殊電ZIF觸點(diǎn)連接。
  • 當(dāng)平臺(tái)停止時(shí),驅(qū)動(dòng)電機(jī)斷電,位置被機(jī)械鎖定,從而將總功耗降至更低,防止加熱和相關(guān)漂移。
技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)地:美國

類型:電子束光刻平臺(tái)

測量分辨率:10nm

行程范圍:55mm到120mm

縫合精度:優(yōu)于100nm

覆蓋精度:優(yōu)于100nm

激光視口:不需要

機(jī)械饋通:不需要

觸點(diǎn)連接:ZIF

兼容:高真空

組件:非鐵磁

部件驅(qū)動(dòng):壓電

產(chǎn)品參數(shù)

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